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簡要描述:帶有精餾柱的薄膜蒸發(fā)裝置薄膜蒸發(fā)器作為再沸器的優(yōu)點(diǎn)如下:- 物料停留時間短- 能處理高粘度物料- 通過刮膜系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)高的蒸發(fā)效率- 物料結(jié)焦的趨勢非常小,適于處理熱敏性物料
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詳細(xì)介紹
設(shè)備名稱 | 帶有精餾柱的薄膜蒸發(fā)裝置 |
蒸發(fā)面積 | 0.04m2,0.07 m2 玻璃材質(zhì) 0.1-25 m2 不銹鋼材質(zhì) |
處理物料范圍 | 熔點(diǎn)范圍180℃以下的物料 |
操作壓力 | 1000-0.5mbar(精餾柱頂部) |
蒸發(fā)器內(nèi)最低操作壓力 | 1.5mbar(取決于蒸發(fā)率和回流比) |
蒸發(fā)器最高加熱溫度 | 300℃,可選配最高400℃ |
標(biāo)準(zhǔn)的理論塔板數(shù) | 大約10個,可根據(jù)客戶需求選定理論塔板數(shù) |
操作溫度下的最高粘度 | 10000 mPas (cP) |
精餾塔(柱)原理
薄膜蒸發(fā)和短程蒸餾本質(zhì)都是簡單蒸餾,但對于兩個組分間沸點(diǎn)差距在30℃以下的分離均無法達(dá)到有效的分離效果,需要精餾來實(shí)現(xiàn)。預(yù)熱后的料液自精餾塔的中部位置加入,精餾塔頂部設(shè)有冷凝器將塔頂蒸汽冷凝為液體。冷凝液的一部分回入塔頂,稱為回流液,其余作為塔頂產(chǎn)品連續(xù)排出。在塔內(nèi)上部分(加料位置以上)上升蒸汽和回流液體之間進(jìn)行逆流接觸和物質(zhì)傳遞。塔底部裝有再沸器(薄膜蒸發(fā)器)以加熱液體產(chǎn)生蒸汽,蒸汽沿塔上升,與下降的液體逆流接觸并進(jìn)行物質(zhì)傳遞,塔底連續(xù)排出部分作為塔底產(chǎn)品。
在塔的加料位置以上,上升蒸汽所含的重組分向液相傳遞,而回流液中的輕組分向氣相傳遞。如此物質(zhì)交換的結(jié)果,使上升蒸汽中輕組分的濃度逐漸升高。只有足夠的相際接觸表面和足夠的液體回流量,達(dá)到塔頂?shù)恼羝蔀楦呒兌鹊妮p組分。塔的上部分完成了上升蒸汽的精制,即除去其中的重組分,因而稱為精餾段。
在塔的加料位置以下,下降液體(包括回流液和加料中的液體)中的輕組分向氣相傳遞,上升蒸汽中的重組分向液相傳遞。這樣,只要兩相接觸面和上升蒸汽量足夠,達(dá)到塔底的液體中所含的輕組分可降至很低,從而獲得高純度的重組分。塔的下部分完成了下降液體中重組分的提濃即提出了輕組分,因而稱為提留段。
帶精餾柱的薄膜蒸發(fā)裝置組成部分和基本配置如下:
- 進(jìn)料系統(tǒng)
- 進(jìn)料保溫系統(tǒng)
- 預(yù)脫氣段
- 薄膜蒸發(fā)器
- 精餾柱
- 外部循環(huán)冷凝系統(tǒng)以及回流比控制器
- 冷阱
- 重組分和輕組分的出料系統(tǒng)
- 連續(xù)出料系統(tǒng)
- 加熱和冷凝系統(tǒng)
- 真空系統(tǒng)
大約需要100kg的原料即可在中試薄膜精餾裝置上進(jìn)行一次能得到可靠結(jié)果的實(shí)驗(yàn)。VTA可提供小試及中試的薄膜精餾測試服務(wù)。
其他可選參數(shù):
我們的系統(tǒng)都是根據(jù)客戶的需求,在考慮了物料的特性和設(shè)備的使用頻率的基礎(chǔ)上定制化設(shè)計的。除了基本配置以外還可選擇以下配置:
- 對于系統(tǒng)個別部位的保溫(進(jìn)料,重組分出料,輕組分出料),用于處理高熔點(diǎn)或高粘度的物料
- 與物料接觸部位的材質(zhì)可以選擇不銹鋼,或其他特殊材料以及合金材料
- PLC和可視化設(shè)計
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